포토공정분해능향상기술1 반도체 8대 공정이란? 3. 포토공정 제대로 알기 (EUV, 노광공정, 감광제, 다중패턴, 포토마스크) 포토 공정 포토공정이란? 포토공정이란, 원하는 회로설계를 만들어 놓은 마스크라는 원판에 빛을 쬐어 생기는 그림자를 웨이퍼 상에 전사시켜 복사하는 기술입니다. 회로를 그려내는 과정으로 보면 됩니다. 반도체의 제조 공정에서 설계된 패턴을 웨이퍼 위에 형성하는 가장 중요한 공정으로, 소자의 집적도를 향상하는 데 가장 핵심적인 공정입니다. 반도체 집적도가 증가할수록 칩을 구성하는 단위 소자 역시 미세 공정을 사용해 작게 만들어야 하기 때문에 포토 공정 기술 또한 높은 기술력을 요하게 됩니다. 포토 공정 순서 1단계 표면처리 웨이퍼의 표면을 화학 처리하여 친수성에서 소수성으로 바꾸어 감광제의 접착력을 향상시킵니다. 웨이퍼 표면을 HMDS 증기에 노출시켜 Si-O-H 형태의 친수성인 웨이퍼 표면을 Si-O-Si-(.. 2021. 10. 30. 이전 1 다음
